---晶圆级超薄减薄的关键利器;半导体减薄遇厚度波动与表面损伤难题,天鉴专研高端减薄砂轮微粉,以纳米级分散技术实现进口替代,厚度控制精度+表面质量双突破,适配SiC/GaN晶圆超精密减薄需求。核心优势:纳米级均一;突破分散难题;晶圆级纯净;微刃等高;稳定品质。为第三代半导体材料(SiC/GaN)及300mm大晶圆减薄,提供纳米级平坦化保障,推动进口替代与产业链自主可控。
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